Retix.C Ultra Repair Nano-Mask EctoHyal Complex 3.0 1szt.
Retix.C Ultra Repair Nano-Mask EctoHyal Complex 3.0 to preparat w formie profesjonalnej maski pozabiegowej. Efekt drugiej skóry Maska idealnie przylega do skóry tworząc wrażenie przedłużenia skóry. Moc nawilżenia Maska świetnie nawilża, koi i uspokaja skórę redukując zaczerwienienia. W składzie znajdziemy trzy formy kwasu hialuroowego oraz ektoiny - EctoHyal Complex 3.0. Zastosowanie: silne nawilżenie, złagodzenie podrażnień, ukojenie skóry, redukcja zaczerwienień oraz uczucia ściągnięcia. Obszary stosowania: twarz. Skład: Ectohyal complex 3.0 - kompleks składników o działaniu nawilżającym: Kwas hialuronowy - działanie nawilżające i ujędrniające, składnik przywracający równowagę wodną organizmu, Ektoina - organiczny związek chemiczny powstał w procesie fermentacji; właściwości ochronne, przeciwzapalne i nawilżające; dzięki tworzeniu hydrokompleksów ektoinowych zapobiega wysuszaniu się skóry. Bisabolol - ekstrakt z rumianku lekarskiego o działaniu przeciwzapalnym, łagodzącym oraz pobudzającym naskórek do regeneracji. Ingredients (INCI): Aqua (Water), Glycerin, Propylene Glycol, Polyacrylate-13, Polyisobutene, Estoin, p-Anisic Acid, Chlorphenesin, Sodium Hyaluronate, Lactic Acid, Sodium Hydroxide, Bisabolol, Polysorbate 20, 0-Cymen-5-ol, Sorbitan Isostearate, Sodium Phytate, Ethylhexyl Palmitate, Alcohol, Trihydroxystearin. Sposób użycia: Aplikować na cała skórę twarzy po wykonanym zabiegu, tak by idealnie przylegała do skóry. Pozostawić na 20 minut, usunąć a następnie wmasować pozostałą część produktu. Opakowanie: 1x15 ml. UWAGA! Podana cena dotyczy jednej saszetki z maską z preparatem o pojemności 15ml. Opakowanie zawiera osiem masek. W przypadku zakupu jednej maski, opakowanie przydzielane jest losowo.
